金融界2025年6月7日消息，国家知识产权局信息显示，乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司申请一项名为“具有交替的非等离子体和等离子体蚀刻工艺的蚀刻方法”的专利，公开号CN120113038A，申请日期为2023年10月。

专利摘要显示，一种用于在衬底中形成孔图案的方法，该衬底包括设置在其上的膜和设置在该膜上的图案化掩模层，该方法包括1)在非等离子体条件下将该衬底暴露于钝化分子的蒸气一定时间段以在该图案化掩模层上形成表面保护层，2)将该衬底暴露于等离子体活化的蚀刻气体并用该等离子体活化的蚀刻气体对该衬底进行等离子体干式蚀刻以在该膜中的图案化掩模层上形成孔，以及3)重复步骤1)和2)直到在该膜中形成期望的孔图案，其中该表面保护层还在该膜中形成的孔的侧壁上形成，其中该钝化分子具有等于或大于20℃的沸点。

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